Kulstoftetrafluorid (CF4)

Tekniske parametre

Carbontetrafluorid er et halogeneret carbonhydrid med den kemiske formel CF4.Det kan betragtes som et halogeneret carbonhydrid, halogeneret methan, perfluorcarbon eller som en uorganisk forbindelse.Carbontetrafluorid er en farveløs og lugtfri gas, uopløselig i vand, opløselig i benzen og chloroform.Stabil under normal temperatur og tryk, undgå stærke oxidanter, brændbare eller brændbare materialer.Ikke-brændbar gas, beholderens indre tryk vil stige, når den udsættes for høj varme, og der er fare for revner og eksplosion.Det er kemisk stabilt og ikke brændbart.Kun flydende ammoniak-natriummetalreagens kan fungere ved stuetemperatur.Kulstoftetrafluorid er en gas, der forårsager drivhuseffekten.Den er meget stabil, kan opholde sig i atmosfæren i lang tid og er en meget kraftig drivhusgas.Carbontetrafluorid bruges i plasmaætsningsprocessen i forskellige integrerede kredsløb.Den bruges også som lasergas og bruges i lavtemperaturkølemidler, opløsningsmidler, smøremidler, isoleringsmaterialer og kølemidler til infrarøde detektorer.Det er den mest anvendte plasmaætsningsgas i mikroelektronikindustrien.Det er en blanding af tetrafluormethan gas med høj renhed og tetrafluormethan gas med høj renhed og høj renhed oxygen.Det kan bruges i vid udstrækning i silicium, siliciumdioxid, siliciumnitrid og phosphosilikatglas.Ætsningen af ​​tyndfilmsmaterialer som wolfram og wolfram er også meget udbredt til overfladerensning af elektroniske enheder, solcelleproduktion, laserteknologi, lavtemperaturkøling, lækageinspektion og rengøringsmiddel i produktion af trykte kredsløb.Anvendes som lavtemperaturkølemiddel og plasmatørætsningsteknologi til integrerede kredsløb.Forholdsregler ved opbevaring: Opbevares på et køligt, ventileret ikke-brændbart gaslager.Holdes væk fra ild og varmekilder.Opbevaringstemperaturen bør ikke overstige 30°C.Det bør opbevares adskilt fra let (brændbare) brændbare stoffer og oxidanter, og undgå blandet opbevaring.Opbevaringsområdet skal være udstyret med nødbehandlingsudstyr til lækage.

Ansøgning:

① Kølemiddel:

Tetrafluormethan bruges nogle gange som et lavtemperaturkølemiddel.

② Radering:

Det bruges i elektronisk mikrofremstilling alene eller i kombination med oxygen som plasmaætsemiddel for silicium, siliciumdioxid og siliciumnitrid.

Normal pakke:

Fordel:

①Høj renhed, nyeste facilitet;

②ISO certifikat fabrikant;

③Hurtig levering;

④On-line analysesystem til kvalitetskontrol i hvert trin;

⑤Højt krav og omhyggelig proces til håndtering af cylinder før påfyldning;