Nyankommet Kina højrent CF4-gas til ætsning i halvlederindustrien

Vi tror på: Innovation er vores sjæl og ånd. God kvalitet er vores liv. Kundernes behov er vores Gud for den nye kinesiske højrenhedsgas CF4 til ætsning i halvlederindustrien. Vi gør oprigtigt vores bedste for at tilbyde den bedste service til alle kunder og forretningsfolk.
Vi tror på: Innovation er vores sjæl og ånd. God kvalitet er vores liv. Kundernes behov er vores Gud.Kina CF4 kølemiddelgas, GasflaskeKonkurrencen på dette område er meget hård, men vi vil stadig tilbyde den bedste kvalitet, rimelige priser og den mest hensynsfulde service i et forsøg på at nå et win-win-mål. "Forandring til det bedre!" er vores slogan, som betyder "En bedre verden ligger foran os, så lad os nyde den!" Forandring til det bedre! Er du klar?

Tekniske parametre

Kulstoftetrafluorid er et halogeneret kulbrinte med den kemiske formel CF4. Det kan betragtes som et halogeneret kulbrinte, halogeneret metan, perfluorcarbon eller som en uorganisk forbindelse. Kulstoftetrafluorid er en farveløs og lugtfri gas, uopløselig i vand, opløselig i benzen og chloroform. Stabil under normal temperatur og tryk, undgå stærke oxidanter, brandfarlige eller brændbare materialer. Ikke-brændbar gas, beholderens indre tryk vil stige, når den udsættes for høj varme, og der er fare for revner og eksplosion. Det er kemisk stabilt og ikke-brandbart. Kun flydende ammoniak-natriummetalreagens kan virke ved stuetemperatur. Kulstoftetrafluorid er en gas, der forårsager drivhuseffekten. Det er meget stabilt, kan forblive i atmosfæren i lang tid og er en meget kraftig drivhusgas. Kulstoftetrafluorid bruges i plasmaætsningsprocessen i forskellige integrerede kredsløb. Det bruges også som lasergas og bruges i lavtemperaturkølemidler, opløsningsmidler, smøremidler, isoleringsmaterialer og kølemidler til infrarøde detektorer. Det er den mest anvendte plasmaætsningsgas i mikroelektronikindustrien. Det er en blanding af tetrafluormethan højrent gas og tetrafluormethan højrent gas og højrent ilt. Det kan anvendes i vid udstrækning i silicium, siliciumdioxid, siliciumnitrid og fosfosilikatglas. Ætsning af tyndfilmsmaterialer såsom wolfram og wolfram anvendes også i vid udstrækning til overfladerensning af elektroniske enheder, solcelleproduktion, laserteknologi, lavtemperaturkøling, lækageinspektion og rengøringsmiddel i produktion af printkort. Anvendes som lavtemperaturkølemiddel og plasmatørætsningsteknologi til integrerede kredsløb. Forholdsregler ved opbevaring: Opbevares køligt og ventileret, ikke-brændbart gaslager. Holdes væk fra ild og varmekilder. Opbevaringstemperaturen bør ikke overstige 30°C. Det skal opbevares adskilt fra let (brandbare) stoffer og oxidanter, og blandet opbevaring bør undgås. Opbevaringsområdet skal være udstyret med udstyr til nødbehandling af lækager.

Anvendelse:

① Kølemiddel:

Tetrafluormethan bruges undertiden som et lavtemperaturkølemiddel.

② Ætsning:

Det bruges i elektronikmikrofabrikation alene eller i kombination med ilt som et plasmaætsningsmiddel til silicium, siliciumdioxid og siliciumnitrid.

Normal pakke:

Fordel:

①Høj renhed, nyeste faciliteter;

②ISO-certifikatproducent;

③Hurtig levering;

④Online analysesystem til kvalitetskontrol i hvert trin;

⑤Høje krav og omhyggelig proces til håndtering af cylinder før påfyldning;Vi tror på: Innovation er vores sjæl og ånd. God kvalitet er vores liv. Kundernes behov er vores Gud for den nye kinesiske højrenhedsgas CF4 til ætsning i halvlederindustrien. Vi gør oprigtigt vores bedste for at tilbyde den bedste service til alle kunder og forretningsfolk.
NyankommetKina CF4 kølemiddelgas, GasflaskeKonkurrencen på dette område er meget hård, men vi vil stadig tilbyde den bedste kvalitet, rimelige priser og den mest hensynsfulde service i et forsøg på at nå et win-win-mål. "Forandring til det bedre!" er vores slogan, som betyder "En bedre verden ligger foran os, så lad os nyde den!" Forandring til det bedre! Er du klar?