Nyankomst Kina High Purity CF4 Gas til ætsning af halvlederindustrien

Vi tror på: Innovation er vores sjæl og ånd. God kvalitet er vores liv. Shopper skal have, er vores Gud for den nyligt ankomst Kina High Purity CF4 Gas til ætsning af halvlederindustrien, vi gør oprigtigt vores bedste for at tilbyde den bedste service for alle klienter og forretningsfolk.
Vi tror på: Innovation er vores sjæl og ånd. God kvalitet er vores liv. Shopper skal have, er vores Gud forKina CF4 kølemiddelgas, Gascylinder, Nu er konkurrencen på dette felt meget hård; Men vi vil stadig tilbyde den bedste kvalitet, rimelige pris og mest hensynsfulde service i en bestræbelse på at nå win-win-mål. "Skift til det bedre!" Er vores slogan, hvilket betyder "en bedre verden er foran os, så lad os nyde det!" Skift til det bedre! Er du klar?

Tekniske parametre

Carbon -tetrafluorid er et halogeneret carbonbonhydrid med den kemiske formel CF4. Det kan betragtes som et halogeneret carbonhydrid, halogeneret methan, perfluorcarbon eller som en uorganisk forbindelse. Carbon tetrafluorid er en farveløs og lugtfri gas, uopløselig i vand, opløselig i benzen og chloroform. Stabil under normal temperatur og tryk, undgå stærke oxidanter, brandfarlige eller brændbare materialer. Ikke-brændbar gas, beholderens indre tryk øges, når den udsættes for høj varme, og der er fare for revner og eksplosion. Det er kemisk stabilt og ikke-brandfarligt. Kun flydende ammoniak-natriummetalreagens kan arbejde ved stuetemperatur. Carbon tetrafluorid er en gas, der forårsager drivhuseffekten. Det er meget stabilt, kan forblive i atmosfæren i lang tid og er en meget kraftig drivhusgas. Carbon -tetrafluorid anvendes i plasma -ætsningsprocessen for forskellige integrerede kredsløb. Det bruges også som lasergas og bruges i kølemidler med lav temperatur, opløsningsmidler, smøremidler, isolerende materialer og kølevæsener til infrarøde detektorer. Det er den mest anvendte plasma -ætsningsgas i mikroelektronikindustrien. Det er en blanding af tetrafluormethan-gas- og tetrafluormethan-gas og ilt-ilt. Det kan bruges i vid udstrækning i silicium, siliciumdioxid, siliciumnitrid og phosphosilicatglas. Ætsning af tynde filmmaterialer såsom wolfram og wolfram er også vidt brugt i overfladen rengøring af elektroniske enheder, solcelleproduktion, laserteknologi, køling af lav temperatur, lækageinspektion og vaskemiddel i trykt kredsløbsproduktion. Brugt som en lavtemperatur kølemiddel og plasma-tør ætsningsteknologi til integrerede kredsløb. Forholdsregler for opbevaring: Opbevares i en kølig, ventileret ikke-brændbar gaslagre. Hold dig væk fra ild og varmekilder. Opbevaringstemperaturen må ikke overstige 30 ° C. Det skal opbevares separat fra let (brændbare) forbrændingsler og oxidanter og undgå blandet opbevaring. Opbevaringsområdet skal være udstyret med lækage -nødbehandlingsudstyr.

Anvendelse:

① kølemiddel:

Tetrafluormethan bruges undertiden som et kølemiddel med lav temperatur.

② ætsning:

Det bruges i elektronikmikrofabrikation alene eller i kombination med ilt som et plasma -ætsningsmiddel til silicium, siliciumdioxid og siliciumnitrid.

Normal pakke:

Fordel:

①høj renhed, seneste facilitet;

②iso certifikatproducent;

③ hurtig levering;

④on-line analysesystem til kvalitetskontrol i hvert trin;

⑤ Højbehov og omhyggelig proces til håndtering af cylinder inden udfyldning;Vi tror på: Innovation er vores sjæl og ånd. God kvalitet er vores liv. Shopper skal have, er vores Gud for den nyligt ankomst Kina High Purity CF4 Gas til ætsning af halvlederindustrien, vi gør oprigtigt vores bedste for at tilbyde den bedste service for alle klienter og forretningsfolk.
NyankomstKina CF4 kølemiddelgas, Gascylinder, Nu er konkurrencen på dette felt meget hård; Men vi vil stadig tilbyde den bedste kvalitet, rimelige pris og mest hensynsfulde service i en bestræbelse på at nå win-win-mål. "Skift til det bedre!" Er vores slogan, hvilket betyder "en bedre verden er foran os, så lad os nyde det!" Skift til det bedre! Er du klar?