Fabrikspris for Kina 99,9999% Sih4-gas med høj renhed, silangas til halvlederaflejringsproces

Uanset ny kunde eller tidligere kunde, tror vi på en længere periode og et troværdigt forhold til fabrikspris for Kina 99,9999% Sih4-gas med høj renhedSilan gastil Semiconductor Deposition Process, vi byder nye og gamle shoppere velkommen til at kontakte os via telefon eller mail os forespørgsler via mail for en overskuelig fremtidig virksomhedsforeninger og opnåelse af gensidige resultater.
Uanset ny kunde eller tidligere kunde, tror vi på en længere periode og et troværdigt forhold tilKina Sih4, Silan gas, For at imødekomme flere markedskrav og langsigtet udvikling er en 150.000 kvadratmeter stor ny fabrik under opførelse, som skal tages i brug i 2014. Så skal vi eje en stor produktionskapacitet. Selvfølgelig vil vi fortsætte med at forbedre servicesystemet for at imødekomme kundernes krav, hvilket bringer sundhed, lykke og skønhed til alle.

Tekniske parametre

Silan er en forbindelse af silicium og brint. Det er en generel betegnelse for en række forbindelser, herunder monosilan (SiH4), disilan (Si2H6) og nogle højere niveau silicium-hydrogen forbindelser. Blandt dem er monosilan den mest almindelige, nogle gange omtalt som silan for kort. Silan er en farveløs gas med en modbydelig lugt af hvidløg. Opløselig i vand, næsten uopløselig i ethanol, ether, benzen, chloroform, siliciumchloroform og siliciumtetrachlorid. De kemiske egenskaber af silaner er meget mere aktive end alkaner og oxideres let. Spontan forbrænding kan opstå ved kontakt med luft. Det reagerer ikke med nitrogen under 25°C og reagerer ikke med kulbrinteforbindelser ved stuetemperatur. Brand og eksplosion af silan er resultatet af reaktion med ilt. Silan er ekstremt følsom over for ilt og luft. Silan med en vis koncentration vil også reagere eksplosivt med ilt ved en temperatur på -180°C. Silan er blevet den vigtigste specielle gas, der bruges i halvledermikroelektronikprocesser og bruges til fremstilling af forskellige mikroelektroniske film, herunder enkeltkrystalfilm, mikrokrystallinske, polykrystallinske, siliciumoxid, siliciumnitrid og metalsilicider. De mikroelektroniske anvendelser af silan udvikler sig stadig i dybden: lavtemperaturepitaksi, selektiv epitaksi og heteroepitaksial epitaksi. Ikke kun til siliciumenheder og siliciumintegrerede kredsløb, men også til sammensatte halvlederenheder (galliumarsenid, siliciumcarbid osv.). Det har også applikationer til fremstilling af supergitter kvantebrøndmaterialer. Det kan siges, at silan bruges i næsten alle avancerede integrerede kredsløbs produktionslinjer i moderne tid. Anvendelsen af ​​silan som en siliciumholdig film og belægning er udvidet fra den traditionelle mikroelektronikindustri til forskellige områder som stål, maskiner, kemikalier og optik. En anden potentiel anvendelse af silan er fremstillingen af ​​højtydende keramiske motordele, især brugen af ​​silan til fremstilling af silicid (Si3N4, SiC, etc.) mikropulverteknologi har tiltrukket sig mere og mere opmærksomhed.

Anvendelse:

①Elektronisk:

Silan påføres polykrystallinske siliciumlag på siliciumwafers ved fremstilling af halvledere og tætningsmidler.

②Solar:

Silan bruges til fremstilling af solcellemoduler.

③ Industriel:

Det bruges i energibesparende grønt glas og anvendes til dampaflejring af tyndfilmsprocesser.

Normal pakke:

Fordel:

① Mere end ti år på markedet;

②ISO certifikat fabrikant;

③Hurtig levering;

④ Stabil råvarekilde;

⑤On-line analysesystem til kvalitetskontrol i hvert trin;

⑥Højt krav og omhyggelig proces til håndtering af cylinder før påfyldning;

⑦Renhed: høj renhed elektronisk kvalitet;

⑧Anvendelse: solcellematerialer; fremstilling af højrent polysilicium, siliciumoxid og optisk fiber; fremstilling af farvet glas.Uanset ny kunde eller tidligere kunde, vi tror på længere tidsperiode og troværdigt forhold til fabrikspris for Kina 99,9999% høj renhed Sih4 gas silan gas til halvleder afsætningsproces, vi byder nye og gamle kunder velkommen til at kontakte os via telefon eller mail os forespørgsler via mail for en overskuelig fremtidig virksomhedsforeninger og opnåelse af gensidige resultater.
Fabrikspris forKina Sih4, Silane Gas, For at imødekomme flere markedskrav og langsigtet udvikling er en 150.000 kvadratmeter ny fabrik under opførelse, som skal tages i brug i 2014. Så skal vi eje en stor kapacitet af at producere. Selvfølgelig vil vi fortsætte med at forbedre servicesystemet for at imødekomme kundernes krav, hvilket bringer sundhed, lykke og skønhed til alle.