2019 ætsning af ætsning af god kvalitet 99,999% renhed CF4 tetrafluormethan CF4 gas

Vores virksomhed sigter mod at fungere trofast, tjener til alle vores udsigter og arbejder i ny teknologi og ny maskine ofte til 2019-ætsning af gas 99.999% renhed CF4 Tetrafluormethane CF4-gas, vi helhjertet byder kunder overalt i verden og ser ud til at besøge vores fremstillingsfacilitet og have et win-win-samarbejde med os!
Vores virksomhed sigter mod at fungere trofast, tjener til alle vores udsigter og arbejder ofte i ny teknologi og ny maskine tilKina CF4 gas og carbon tetrafluoridgas, Kundes tilfredshed er altid vores søgen, at skabe værdi for kunder er altid vores pligt, et langsigtet gensidig-fordelagtigt forretningsforhold er det, vi gør for. Vi er en absolut pålidelig partner i dit tilfælde i Kina. Naturligvis kan andre tjenester som konsulent også tilbydes.

Tekniske parametre

Carbon -tetrafluorid er et halogeneret carbonbonhydrid med den kemiske formel CF4. Det kan betragtes som et halogeneret carbonhydrid, halogeneret methan, perfluorcarbon eller som en uorganisk forbindelse. Carbon tetrafluorid er en farveløs og lugtfri gas, uopløselig i vand, opløselig i benzen og chloroform. Stabil under normal temperatur og tryk, undgå stærke oxidanter, brandfarlige eller brændbare materialer. Ikke-brændbar gas, beholderens indre tryk øges, når den udsættes for høj varme, og der er fare for revner og eksplosion. Det er kemisk stabilt og ikke-brandfarligt. Kun flydende ammoniak-natriummetalreagens kan arbejde ved stuetemperatur. Carbon tetrafluorid er en gas, der forårsager drivhuseffekten. Det er meget stabilt, kan forblive i atmosfæren i lang tid og er en meget kraftig drivhusgas. Carbon -tetrafluorid anvendes i plasma -ætsningsprocessen for forskellige integrerede kredsløb. Det bruges også som lasergas og bruges i kølemidler med lav temperatur, opløsningsmidler, smøremidler, isolerende materialer og kølevæsener til infrarøde detektorer. Det er den mest anvendte plasma -ætsningsgas i mikroelektronikindustrien. Det er en blanding af tetrafluormethan-gas- og tetrafluormethan-gas og ilt-ilt. Det kan bruges i vid udstrækning i silicium, siliciumdioxid, siliciumnitrid og phosphosilicatglas. Ætsning af tynde filmmaterialer såsom wolfram og wolfram er også vidt brugt i overfladen rengøring af elektroniske enheder, solcelleproduktion, laserteknologi, køling af lav temperatur, lækageinspektion og vaskemiddel i trykt kredsløbsproduktion. Brugt som en lavtemperatur kølemiddel og plasma-tør ætsningsteknologi til integrerede kredsløb. Forholdsregler for opbevaring: Opbevares i en kølig, ventileret ikke-brændbar gaslagre. Hold dig væk fra ild og varmekilder. Opbevaringstemperaturen må ikke overstige 30 ° C. Det skal opbevares separat fra let (brændbare) forbrændingsler og oxidanter og undgå blandet opbevaring. Opbevaringsområdet skal være udstyret med lækage -nødbehandlingsudstyr.

Anvendelse:

① kølemiddel:

Tetrafluormethan bruges undertiden som et kølemiddel med lav temperatur.

② ætsning:

Det bruges i elektronikmikrofabrikation alene eller i kombination med ilt som et plasma -ætsningsmiddel til silicium, siliciumdioxid og siliciumnitrid.

Normal pakke:

Fordel:

①høj renhed, seneste facilitet;

②iso certifikatproducent;

③ hurtig levering;

④on-line analysesystem til kvalitetskontrol i hvert trin;

⑤ Højbehov og omhyggelig proces til håndtering af cylinder inden udfyldning;Vores virksomhed sigter mod at fungere trofast, tjener til alle vores udsigter og arbejder i ny teknologi og ny maskine ofte til 2019-ætsning af gas 99.999% renhed CF4 Tetrafluormethane CF4-gas, vi helhjertet byder kunder overalt i verden og ser ud til at besøge vores fremstillingsfacilitet og have et win-win-samarbejde med os!
2019 god kvalitetKina CF4 gas og carbon tetrafluoridgas, Kundes tilfredshed er altid vores søgen, at skabe værdi for kunder er altid vores pligt, et langsigtet gensidig-fordelagtigt forretningsforhold er det, vi gør for. Vi er en absolut pålidelig partner i dit tilfælde i Kina. Naturligvis kan andre tjenester som konsulent også tilbydes.